| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING POLYCRYSTALLINE SILICON SEMICONDUCTOR RESISTANCE LAYER ON SILICON SUBSTRATE AND SILICON PRESSURE SENSOR MANUFACTURED BY THE METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH01313974(A) |
申请公布日期 |
1989.12.19 |
| 申请号 |
JP19890103572 |
申请日期 |
1989.04.25 |
| 申请人 |
PHILIPS GLOEILAMPENFAB:NV |
发明人 |
HORUKERU GURAEGERU;RORUFU UDO DEIITERU KOBUSU;HORUSUTO SHIEEFUERU;HAINRITSUHI TSUAIRE |
| 分类号 |
H01L27/04;G01L9/00;H01C10/10;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/822;H01L29/84 |
主分类号 |
H01L27/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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