| 发明名称 |
THERMAL PROCESS FOR TREATING A POLYSILAZANE CONTAINING = SI AND = SI-N-GROUPS |
| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un procédé de traitement thermique à une température comprise entre 40 et 220.degree. C d'un polysilazane contenant en moyenne au moins 2, de préférence au moins 3 groupes ? SiH par molécule et au moins 2 groupes ? Si - ? - et éventuellement des groupes hydrocarbonés aliphatiques insaturés liés aux atomes de silicium. Les polysilazanes ainsi traités présentent une tenue thermique élevée et sont utilisables notamment comme précurseurs de produits céramiques avec un rendement en produit minéral élevé. L'invention concerne également une composition polysilazane obtenue par la mise en oeuvre du procédé précédemment mentionné.</p> |
| 申请公布号 |
CA1263963(A) |
申请公布日期 |
1989.12.19 |
| 申请号 |
CA19860509259 |
申请日期 |
1986.05.15 |
| 申请人 |
RHONE-POULENC SPECIALITES CHIMIQUES |
发明人 |
LEBRUN, JEAN-JACQUES;PORTE, HUGUES |
| 分类号 |
C01B31/36;C01B21/068;C04B35/571;C04B35/589;C07F7/10;C08G77/00;C08G77/48;C08G77/54;C08G77/62;C08L83/16;D01F9/08;D01F9/10;(IPC1-7):C07F7/10 |
主分类号 |
C01B31/36 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
