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发明名称 AUTOMATIC CHEMICAL TREATMENT DEVICE FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH01312829(A) 申请公布日期 1989.12.18
申请号 JP19880143017 申请日期 1988.06.09
申请人 NEC KYUSHU LTD 发明人 NONAKA HIROSHI
分类号 H01L21/306;H01L21/304 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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