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发明名称 PROCESS FOR DIFFUSING IMPURITIES INTO A SEMICONDUCTOR BODY
摘要
申请公布号 EP0194499(A3) 申请公布日期 1989.12.13
申请号 EP19860102408 申请日期 1986.02.25
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 HOVEL, HAROLD JOHN;MCKOY, THERMON EZZARD
分类号 C30B31/06;C30B29/40;C30B31/02;H01L21/223;H01L21/225;(IPC1-7):H01L21/223 主分类号 C30B31/06
代理机构 代理人
主权项
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