新型反光装饰材料镀膜技术

摘要

一种采用磁控反应溅射技术在金属及其合金材料、陶瓷、玻璃及耐温250℃以上的高分子化合物表面上沉积ZrN_x连续膜。通过改变氮气分压及偏压来改善膜层结构及表面状态，从而得到不同反射率及不同色泽的耐磨、耐腐蚀的反光装饰膜。该膜层制备工艺简单、重复性好、对环境无污染，可广泛应用于反光材料及装璜仿金膜。

主权项

1、一种采用磁控反应溅射真空炉中将基体加热到150℃～500℃时，在基体表面沉积一层锆或锆基合金的金属氮化物镀膜工艺，其特征是1、通入氩气使真空压强在10-2～10-4乇下，施加-500V～-1500V电压下轰击清洗，2、在-50V～-700V偏压下，靶电压在-300V～-800V时溅射一层10A～1000A的纯锆膜，3、反应溅射开始时通入氮气其分压值P在10-5≤P≤10-3乇之间变化沉积生成ZrNx，其x值在0～1之间变化，生成0.2～2μm的连续膜，4、最后关掉氮气再镀一层很薄(10A～200A)的锆膜，其总厚度为0.2～2.1μm的锆或锆基合金的金属氮化物膜层。