发明名称 二去氢美比霉素衍生物及其制法
摘要
申请公布号 TW123823 申请公布日期 1989.12.01
申请号 TW07214026 申请日期 1983.11.23
申请人 三共股份有限公司 发明人 中田泰雄;井手纯也;北野训敏;村松重基
分类号 A01N43/90;C07D493/22 主分类号 A01N43/90
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒制造分子式(II)化合物或其盐类及酯 类之方法:其中R^1为甲基、乙基或异 丙基而R^2为氢原子,甲基,基或羧 甲基,而R^2则为氢原子,该方法包括 由分子(III)之化合物与分子式(I V)之化剂或其盐类反应制成,(其中 R^1基定义如前)NH2OR^2(IV )(其中R^2基定义如前)而化合物( II)之酯类,则由所得分子式(II) 之化合物其中R^2为氢原子与醯基卤或 异氰酸盐反应制成。 2﹒依申请专利范围第1项之制法,当分子式 (II)之化合物其中R^2为氢原子, 其由分子式(Ⅲ)之化合物与分子式(I V')之化剂或其盐类反应制成。NH 2OH(IV')3﹒下式分子式(Ⅱ) 化合物或其盐类及酯类其中R^1为甲基 、乙基或异丙基而R^2为氢原子,甲基 ,基或羧甲基,而R^2则为氢原子。 4﹒如申请专利范围第3项之化合物或其盐类 及其酯类,其中R^2为氢。 5﹒如申请专利范围第3项或4项之化合物, 其中R^1为乙基或异丙基。 6﹒如下式分子式(Ⅱa)之化合物:其中R ^1为甲基、乙基、或异丙基,R^2a则 表:分子式为一COR^4之基,其中R ^4为C1──6烷基,其上随意具1个 卤素取代基之苯基;分子式为─CO─N R^6'R^7'之基,其中R^6'为甲基, 而R^'为甲基;分子式为─COOR^1 0之基,其中R^10为C1─C2烷基 ,或2,3─二甲基1,3─二恶茂烷─ 5─基甲基;分子式为─SO2R^11 之基,其中R^11表甲基或从1至3甲 基所取代之苯基;分子式为─Y^1=P (─Y^2─R^12)2之基,其中Y^ 1及Y^2可相同或相异,每一个表一氧 或硫原子,而Y^2所表之二原子亦可相 同或相异,每一个R^12基为C1─C 2烷基,亦可相同或相异。 7﹒依申请专利范围第6项之化合物,其中R ^2a为一分子式为─CONHR^7'之 基,其中R^7'表甲基或一分子式为CH 2COOR^9之基(其中R^9表一氢原 子或甲基)。
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