| 主权项 |
1﹒一种涂覆基质之装置,由一些个别的载体 装置来加以保持,该等载体装置连续的步 进式的移动进入或移动离开一个涂覆槽, 此种涂覆基质之装包含有:一些密封装置 ,分别装到该等载体装置的有关的一个; 第一垂直伸长洞穴装置,具有第一和第二 端,和具有侧壁装置和在该侧壁装置之至 少一个部份具有一些孔洞,该第一垂直伸 长洞穴装置被设计成使该载体装置和该密 封装置在其中,用来产生实质上之密封藉 以阻止气体通过该载体和该侧壁装置之间 ;用来装载该载体装置之装载装置,被设 计和安置成用来将该载体装置移进第一垂 直伸长洞穴装置,藉以使一序列之该载体 装置移动经过该第一垂直伸长洞穴装置; 真空抽气装置,被安置成邻近该第一伸长 洞穴装置之该至少一个部份,用来在该至 少一个部份创建真空,因此排气基质由位 于该至少一个部份之该载体装置来加以保 持;运输装置,被设计和安置成用来使通 过该第一伸长洞穴装置之该载体装置之该 载体装置产生移动;和真空箱槽涂覆装置 ,被设计成用来收容该运输装置,该真空 箱槽涂覆装置更被设计成用来收容实质上 涂覆该等基质之装置,该实质上涂覆之装 置被安置成与该运输装置相关,用来对该 运输装置所移动之该基质进行实质上之涂 覆;和移去装置,用来移动该载体装置使 其离开该运输装置和离开该真空箱槽涂覆 装置。 2﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中该第一垂直伸长洞穴装置是一 个中空圆筒体。 3﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中该真空抽气装置之设置用来包 围该至少一个部份;和其中该至少一个部 份被抽气成真空位准,该真空位准低于在 该真空箱槽涂覆装置之真空位准。 4﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中包括有该侧壁装置的一个第三 部份,具有一些孔洞;和其中该真空抽气 装置包括有第一和第二高只空抽气机,该 第一高真空抽气机被安置或邻近该侧壁装 置之该至少一个部份,和该第二高真空抽 气机被安置成邻近该侧壁装置之该第二部 份,分别用来提供该第一垂直伸长洞穴装 置之第一和第二真空位准部份。 5﹒如申请专利范围第4项所述之涂覆基质之 装置,其中在该至少一个部份之第一部份 之气体压力比在该第二部份之气体压力高 ;和其中在该真空箱槽涂覆装置之气体压 力比在该第二部份之气体压力高。 6﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中该密封装置为0环。 7﹒如申请专利范围第6项所述之涂覆基质之 装置,其中该0环由弹性材料来制造。 8﹒如申请专利范围第6项所述之途覆基质之 装置,其中该载体具有第一通道围绕其有 关之周边和其中该0环被安置在该第一通 道。 9﹒如申请专利范围第6项所述之涂覆基质之 装置,其中该运输装置包括有垂直提升装 置用来垂直的提升各个载体装置,该各个 载体装置系指通过该第一垂直伸长洞穴者 。 10﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中该载体装置装成装置包括有一 个台装置具有至少为一个之孔洞用来将该 载体推压进入该第一垂直伸长洞穴装置。 11﹒如申请专利范围第10项所述之涂覆基质 之装置,其中该台装置是一个实质上为圆 形之圆台而且可以施转;和其中该可施转 之圆台具有多个孔洞,各被设计成用来保 持载体装置。 12﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中有一个消洁装置被包括在该真 空箱槽涂覆箱槽内,该清洁装置用来清洁 该等基质;和其中该用来清洁该等基质之 该清洁装置相关,使被该运输装置运输之 基质在它们通过该实质上涂覆基质之装置 之下面之先前通过该清洁基体装置之下。 13﹒如申请专利范围第1项所述之涂覆基质之 装置,其中用来移去该载体装置使其离开 该真空箱槽涂覆装置之装置包括有一个第 二垂直伸长洞穴装置。图示简单说明 图1A是一个基质载体之俯视图,而 图1B是图1A所示之载体之底侧之端视 图; 图2是本发明之系统之俯视图,特别用来 显示装载榬和与中空圆筒体下面之装载位置关 系; 图3是一个概略的布置图,用来表示垂直 中空图筒体和它所通过之真空站以及涂覆箱体 。 |
