| 摘要 |
<P>L'invention concerne des compositions pour le traitement de matériaux cinématographiques utilisables en cinématographie et dans l'industrie chimico-photographique.</P><P>La composition contient un copolymère séquencé de formule générale :[R3 SiO0,5 ] a [R2 SiO] b [RSiO1,5 ] c Xd Yoù a = 0 à 2; b = 0 à 150; c = 0 ou 1; d = 0 à 3; a, b, c ne pouvant pas être simultanément zéro; R = alcoyle (C1 -C4 ) ou phényle; X = (OC2 H4 )m (OC3 H6 )n Z, où Z = hydroxy, alcoxy (C1 -C4 ) ou acétoxy; m = 6 à 40; n = 0 à 40; Y est absent ou Y =<BR/>(CF DESSIN DANS BOPI)<BR/> où Z1 et Z2 = hydroxy, alcoxy (C1 -C4 ) ou acétoxy, k1 + k2 = 1 à 50; k1 ou k2 pouvant être égal à zéro; m1 = 6 à 50, m2 = 6 à 40, n1 = 0 à 50, n2 = 0 à 40, le rapport des constituants étant, en % en poids : copolymère séquencé 0,05 à 0,5, eau complément à 100.</P><P>La composition peut également renfermer un polyéther de formule générale :A1 (OC2 H4 )p (OC3 H6 )q OA2 où A1 et A2 = hydrogène, alcoyle (C1 -C4 ) ou acétyle, p = 6 à 40; q = 0 à 40, le rapport des constituants étant, en % en poids : copolymère séquencé 0,050 à 0,5, polyéther 0,002 à 0,3, eau complément à 100.</P>
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