发明名称 Filter device for waste gas stream at the gas phase deposition in semiconductor technic.
摘要 Zum Zurückhalten fester Bestandteile des Abgasstromes bei Gasphasenabscheidungen wird eine Filteranordnung vorgeschlagen, die ein in einem Filtergehäuse (1) angeordnetes Gewebefilter (4) aufweist. Das Filtergehäuse (1) weist einen Einlaß (2) und einen Auslaß (3) auf, durch den der Abgasstrom mittels einer Pumpe gesaugt wird und einen Filtergehäusedeckel (5) zum Öffnen des Filtergehäuses (1). Das Gewebefilter (4) ist nach dem Prinzip eines Faltenbalgs ausgebildet. Die Filteranordnung ist bei der Herstellung integrierter Schaltungen mit CVD-Verfahren einsetzbar.
申请公布号 EP0341451(A1) 申请公布日期 1989.11.15
申请号 EP19890106878 申请日期 1989.04.17
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 TREICHEL, HELMUTH, DIPL.-ING. (FH);FUCHS, DIETER, DIPL.-ING. (FH);STOLZ, MANFRED, DIPL.-ING. (FH)
分类号 B01D39/18;B01D46/52;C23C16/44 主分类号 B01D39/18
代理机构 代理人
主权项
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