发明名称 |
REACTION APPARATUS FOR SURFACE ANALYSIS OF SI SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH01280249(A) |
申请公布日期 |
1989.11.10 |
申请号 |
JP19880013374D |
申请日期 |
1988.01.23 |
申请人 |
KYUSHU ELECTRON METAL CO LTD;OSAKA TITANIUM CO LTD |
发明人 |
TANIZOE YASUKO |
分类号 |
G01N31/00;G01N1/28;H01L21/66 |
主分类号 |
G01N31/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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