| 发明名称 |
Developer solutions for PMMA electron resist |
| 摘要 |
An improved developer for PMMA electron resist comprising an effective amount of MEK in combination with MIBK or CS alone or a mixture thereof.
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| 申请公布号 |
US4877716(A) |
申请公布日期 |
1989.10.31 |
| 申请号 |
US19880159777 |
申请日期 |
1988.02.24 |
| 申请人 |
ARIZONA BOARD OF REGENTS |
发明人 |
BERNSTEIN, GARY;FERRY, DAVID K.;LIU, WENPING |
| 分类号 |
G03F7/32 |
主分类号 |
G03F7/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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