| 主权项 |
1﹒一种具式(1),(2)或(3)之光敏 感化合物式中R为H,─X─Rb或─X X为C─C单键,n为1或2,Ra为H ,─OH,─OY,─OZ,卤素或低级 烷基,而至少一个Ra为─OY,且至少 一个为─OZ,Rb为H,烷基,芳基, 经取代之烷基,或经取代之芳基;其中R 1为H,或Rc为H,─OH,─OY或 ─OZ,而至少一个Rc基为─OY,且 至少一个为─OZ;及式中R2为H,烷 基,芳基,经取代之烷基,或经取代之芳 基,Rb为─OH,─OY或─OZ,而 至少一个Rd基为─OY且至少丘个为─ OZ;其中Y为1,2─二叠氮─4 ─磺醯基且Z为─W─R3,其中W为或 ─SO2─,且R3为烷基,芳基,经取 代之烷基或经取代之芳基。 2﹒一种含有下列组成之缩合物之光敏剂组成 物式中R为H,─X─Rb或─XRa为 H,─OH,卤素或低级烷基,而至少两 个且不多于六个之Ra基为─OH;X为 C─C单键,─O─,─S─,n为1或 2,Rb为H,烷基,芳基,经取代之烷 基或经取代之芳基;式中R1为H或Re 为H或─OH,而至少两个Re基为─O H;及式中R2为H,烷基,芳基,经取 代之烷基,或经取代之芳基;(II)1 ,2─二叠氮─4─磺酸(重氮): 及(III)具式W─R之有机酸卤化物 ,式中W为─或─SO─V,V为卤,R 3为烷基,芳基,经取代之芳基;其中重 氮与有机酸卤化物反应用量之莫耳比为自 约1:1至约39:1。 3﹒如申请专利范围第2项之光敏剂组成物, 其中该重氮与有机酸卤化物之反应用量比 例为自约4:1至约19:1。 4﹒如申请专利范围第2项之光敏剂组成物, 其中该重氮与有机酸卤化物之反应用量比 例为自约93:7至约85:15。 5﹒如申请专利范围第2项之光敏剂组成物, 其中该酚化合物为二羟基二苯甲酮类,三 羟基二苯甲酮类或四羟基二苯甲酮类:且 该有机酸卤化物为一低级烷基磺醯卤化物 ,苯磺醯卤化物,低级烷醯卤化物或苯甲 醯卤化物。 6﹒如申请专利范围第3项之光敏剂组成物, 其中该酚化合物为一二羟基二苯甲酮,三 羟基二苯甲酮或四羟基二苯甲酮;且该有 机酸卤化物为低级烷基磺醯卤化物,苯磺 醯卤化物,低级烷醯卤化物或苯甲醯卤化 物。 7﹒如申请专利范围第4项之光敏剂组成物, 其中该酚化合物为一二羟基二苯甲酮,三 羟基二苯甲酮或四羟基二苯甲酮:且该有 机酸卤化物为低级烷基磺醯卤化物,苯磺 醯卤化物,低级烷醯卤化物或苯甲醯卤化 物。 8﹒如申请专利范围第2项之光敏剂组成物, 其中该酚化合物为2,3,4─三羟基二 苯甲酮。 9﹒如申请专利范围第3项之光敏剂组成物, 其中该酚化合物为2,3,4一三羟基二 苯甲酮。 10﹒如申请专利范围第4项之光敏剂组成物, 其中该酚化合物为2,3,4一三羟基二 苯甲酮。 11﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第2项之光敏感组成物。 12﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第3项之光敏感组成物。 13﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第4项之光敏感组成物。 14﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第5项之光敏感组成物。 15﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第6项之光敏感组成物。 16﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第7项之光敏感组成物。 17﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第8项之光敏感组成物。 18﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第9项之光敏感组成物。 19﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第10项之光敏感组成物。 20﹒一种光阻组成物,其包含掺合形式之酚醛 清漆或聚乙烯酚树脂,一种溶剂及如申请 专利范围第1项之光敏感组成物。 21﹒如申请专利范围第8项之光阻组成物,其 中该溶剂为丙二醇甲基醚醋酸酯。 22﹒如申请专利范围第9项之光阻组成物,其 中该溶剂为丙二醇甲基醚醋酸酯。 23﹒如申请专利范围第10项之光阻组成物, 其中该溶剂为丙二醇甲基醚醋酸酯。 24﹒一种光敏剂组成物之制法,其包括:将具 有式(A),(B)或(C)之酚化合物 :式中R为H,─X─Rb,或Ra为H ,─OH,卤素或低级烷基,而至少两个 且不多于六个之Rb基于─OH;X为C ─C单键,─O─,─S─,n为1或2 ,Rb为H,烷基,芳基,经取代之烷基 或经取代之芳基;式中R1为H或Rc为 H或─OH,而至少两个Rc基为─OH :及式中R2为H,烷基,芳基,经取代 之烷基,或经取代之芳基;与1,2─ 二叠氮─4─磺酸(重氮)式W─R3 之有机酸卤化物(其中W为或─SO2─ V,V为卤素,R3为烷基,芳基,经取 代之烷基或经取代之芳基)凝聚一起;其 中重氮与有机酸卤化物反应用量之莫耳比 为自1:1至约39:1。 25﹒一种制法,其包括将一含有酚醛清漆或聚 乙烯酚树脂,溶剂及如申请专利范围第2 项之光敏剂组成物之光阻组成物涂覆于一 基体上;接着依图样将该组成物曝晒于足 够之紫外线照射,以期该图样曝晒部分实 质上可溶于硷性水溶液中;然后利用硷性 显像溶液由基体上移除该经曝晒部分之组 成物。 |
