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发明名称 IM NAHEN UV HOCHAUFLOESENDE POSITIV-FOTORESISTS
摘要
申请公布号 DE3811040(A1) 申请公布日期 1989.10.19
申请号 DE19883811040 申请日期 1988.03.31
申请人 CIBA-GEIGY AG, BASEL, CH 发明人 SCHULZ, REINHARD, DR., 6107 REINHEIM, DE;MUENZEL, HORST, DR., 6100 DARMSTADT, DE
分类号 G03F7/023;G03F7/022 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
主权项
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