| 主权项 |
1. 种含有分子式(I)之重覆单位之有机金 属并末端封闭之聚笨二甲醛: 其中R1,R2,R3及R4各别为氢原 子、卤素原子、绕基、硝基、羧基、羟基 、C1,-C4。烷氧氧、C1,-C4烷硫基 、或C1,-C4烷氧羰基,且R1,R2 ,R3及R4之取代基中至少有1个为- Q(R5)3,或-Q(R6)3,其Q为S i,Sn,Ge,CH2,-Si或O-S i,R5为C1,-C12烷基,R6为C6 -C10芳基。2. 依申请专利范围第1.项之分子式(I)之 聚 苯二甲醛,其中R1,R2,R3,R4 等取代基之一个或二个为-Q(R5)3片或 -Q(R6)3。3. 依申请专利范围第2.项项之聚苯二甲醛, 其 中之Q为Si,CH2-Si或O-Si 。4. 依申请专利范围第1.项之分子式(I)之聚 苯二甲醛,其中R2舆R3之至少一个为 -Q(R5)3或-Si(R6)3,而其他 取代基则为氢原子。5. 一种有机金属笨二甲醛之 共聚合物,除含 申请专利范围第1.项之分子式(I)之结构 单位外,尚含有由可聚合单体衍生之结构 单位,其含量最多为全共聚合物之50克分 子百分率。6. 一种含有分子式(I)之重覆结构单位 之有 机金属苯二甲醛之共聚合物 其中R1至R4取代基如申请专利范围第 l.项中所定义,并含有全共聚合物之50克 分子百分率之结构单位(Ⅱ)、(Ⅲ)或(Ⅳ )中之至少一种 其中R1,R2,R3,R4如申请专利 范围第1.项中定义,R7与R8各别为氢 原子、C1-C4烷基、苯基或C1-C 4烷基或苯基,各被-&(R。)3或-S i(R6)3取代,Q,R5,R6如申请 专利范围第1.项中所定义,R9,R10, R11,R12各别为氢原子,卤素原子,氰 基,硝基,羧基,羟基,C1-C4烷基 、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基 ,或C1-C4烷氧羰基。7. 依申请专利范围第5.项之苯 二甲醛共聚合 物,含有分子式(Ⅲ)之结构单位马可聚合 成分。8. 含有依申请专利范围第1.项之聚笨二甲 醛 及暴露于光化性照射时分离酸之化台物之 一种组成物。9. 含有依申请专利范围第5.项之共 聚台物及 暴露于光化性照射时分离酸之化合物之一 种组成物。10.一种制造构成正像之方法,包括使用 申 请专利范围第l.项之组成物。11.一种制造构成正 橡之方法,包括使用申 请专利范围第8.项之组成物。12.制造含有分子式(I )之重覆结构单位之 末端封闭、有机金属聚苯二甲醛之方法, 其中R1,R2,R3及R4各别为氢原 子、卤素原子、氰基、硝基、羧基、羟基 、C1-C4。烷氧基、C1-C4烷硫基 、或C1-C4烷氧羰基,且R1,R2 ,R3及R4之取代基中至少有1个为一 Q(R5)3或-Q(R6)3,其Q为Si ,Sn,Gc,CH2-Si或O-Si ,R5为C1-C12烷基,R6为C6- C10芳基;其制造包括将分子式(V)之笨 二甲醯亚胺于一种催化剂存在下聚台。13.依申请 专利范围第12.项之制法,其中之 聚合作用在分子式(Ⅱ*)、(Ⅲ*)或(Ⅳ *)等单体中至少有一种存在下进行: 或 其中之取代基如同前述定义。 |
