| 主权项 |
l.如下式(I)化合物或其盐 式中 C为 啶环,其氮原子可有选自低 烷基,低烷醯或低烷氧羰基之取代基,该 氮原子在 啶眠中可经低次烷基结任何位 碳(此非为螺构造之共通碳原子) X为氧或硫, R1,R2及R3可相同或相异,各为氢 或低烷基, R4为氢,低烷基,翔基,低烷氧羰 基,或低烷醯基, R5为卤素,羟基,氢硫基,低烷氧 基,低烷硫基,低烷醯氧基,或低烷醯硫 基 R6及R7可相同或相异,各为氢或 低烷基, Z1及Z2可相同或相异,各为氧或 硫, Alk为低次烷基。 2.如下式化合物之制法 式中R1及R2各相同或相异,各为氢, 低烷基, R8为低烷基, Z3及Z4可相同或相异,各为氧或 硫, c为啶环,其氮原子可有选自低烷基 ,低烷醯或低烷氧羰基之取代基,该氮原 子在 啶环中可经低次烷基连结任何位碳 (此非为螺构造之共通碳原子)。 此制法乃令如下式化合物 式中 C为 啶环,其氮原子可有选自 低烷基,低烷醯,低烷氧羰基,或胺基保 护基之取代基,该氮原子在 啶环可经低 次烷基连结任何位碳(此非为螺构造之共 通原子), R8为低烷基, 与如下式化合物 式中R1,及R2可相同或相异,各为氢或 低烷基, Z3,及Z4可相同或相异,各为氢或硫原 子, 必要时去除保护基。 3.如下式化台物之制法 式中R1,R2,R3可相同或相异,各 为氢或低烷基,R10为氢或低烷基, C为 啶环,其氮原子可有选自 低烷醯或低烷氧羰基之取代基,该氮原子 在 啶环可经低次烷基连结何任位碳(此 非为螺结构之共通原子) 此制法乃令如下式化合物 式中R1,R2及R3同上, A2C为 啶环,其氮原子可有选自 低烷醯,低烷氧羰基或胺基保护基之取代 基,该氮原子在 啶环中可经低次烷基连 结何任位碳(此非为螺结构之共通原子) , R10为氢或低烷基, 与碘反应,必要时去除保护基。 4.如下式化合物之制法 式中R1及R2R3可相同或相异,各为 氢或低烷基, Z3为氧或硫原子, R10为氢或低烷基, C为 啶环,其氮原子可有选自低烷基 ,低烷醯或低烷氧羰基之取代基,该氮原 子在 啶环可经低次烷基连结任何位碳( 此非为螺构造之共通碳原子)。 此制法乃令如下式化台物环化 式中 C为 啶环,其氮原子可有选自 低烷基,低烷醯,低烷氧羰基 或胺基保 护基之取代基,该氮原子在 啶环可经低 次烷基连结任何位碳(此非为螺构造之共 通原子), R1,R2,Z3及R10同上, 必要时去除保护基。 |
