| 主权项 |
1. 用于传送具有圆形对称横切面和强度分布 之单辐射光束之光学装置,包含一个相锁 二极体雷射阵例和一个准直仪透镜,其特 征为在准直仪透镜后面安装(以此顺序)至 少一个棱镜之种镜系统在经过光轴并乎行 P-n接面层之侧向平面中具有对于入射 辐射轴倾斜之进口面和垂直于射出辐射轴 之出口面,以及在二极体雷射阵列之侧向 远场中装有一空间滤波器。2. 依据上述申请专利 范围第1项所述之光学 装置,其特征为在该至少一个棱镜之进口 面对面之角度是90度。3. 依据上述申请专利范围 第1或2项所述之 光学装置,其特征为空间滤器是在棱镜 系统之最后一个棱镜之出口面上由一黑色 涂层、留下一中央圆形开口所组成的。4. 依据上 述申请专利范围第1或2项所述之 光学装置,其特征为空间滤波器是以种镜 系统最后一个棱镜之边界组成的。5. 依据上述申 请专利范围第1,2,3 或者 4项所述之光学装置,其特征为棱镜系统 包括两个棱镜,因此最后一个棱镜之出口 面垂直于入射在第一个棱镜上之辐射轴。6. 根依 据上述申请专利范围第1,2,3或者 4项所述之光学装置,其特征为它包含四 个棱镜,因此在侧向平面中第二和第四个 棱镜之出口面垂直于入射在第一个棱镜上 之辐射转。7. 用于以光学方式记录一光记录载体 之装具 ,包含一个依据欲记录资讯调变强度以产 生一辐射点之光磁头,其特征为该光磁头 包含一个如前述申请专利范围任一项所述 之光学装置以及一个物透镜将来自该装置 之光速聚焦在记录载体上成为绕射有限之 圆点。8. 用于读取记录载体之装具包含有一光磁 头 ,其中产生一辐射点以扫描记录载体,其 特征为该光磁头包含一个根据上述申请专 利范围第1和6项任一项所述之光学装置 以及一个物透镜将来自该装置之光远聚焦 在记录载体上成为绕射有限之点。9. 用于雷射列 印资讯在记录介资上之装具, 包含可在第一方向移动之记录介质载能以 及沿着垂直于第一方向之第二方向扫描一 辐射光束之光束偏向器,其特征为包含一 个根据上述申请专利范围第1至6项任一 项所述之光学装置以及一个物透镜将来自 该装置之光束聚焦在记录介质上成为绕射 有限之辐射点。10.依据上述申请专利范围第7,8或9 项 所述之装置具,其特征为光学装置之空间 滤波器是以物透镜之进口瞳孔构成的。图示简单 说明: 图1以透视图显示一个半导体雷射单元 。 图2a说明雷射阵例之光栅状结构。 图2b表示雷射阵列之远场辐射分布。 图3a和3b显示依据本发明分别在侧 向与横向切面之光学装置之一第一实施例。 图4a和4b显示在相同切面中此装置 之第二实施例。 图5a和5b再次显示在侧向及横向切 面中之第三实施例。 图6表示包含本发明之装置用在记录光 碟之装具,以及 图7显示包括本装置之雷射列表机。 |
