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经营范围
发明名称
FORMATION OF SEMICONDUCTOR CRYSTAL LAYER
摘要
申请公布号
JPH01245509(A)
申请公布日期
1989.09.29
申请号
JP19880071847
申请日期
1988.03.28
申请人
TOSHIBA CORP
发明人
HIGASHINAKAGAHA IWAO;MIZUSHIMA ICHIRO
分类号
H01L21/20;H01L21/324
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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