发明名称 Cathode sputtering device.
摘要 <p>Um die Zerstäubungsrate in Kathodenzerstäubungsanlagen steigern zu können, werden die Kühlung und die Überwachung des Targets (6) verbessert. Die topfförmige Kathode (1) mit Zuleitung (2) und Ableitung (3) für Kühlflüssigkeit (4) wird an ihrer Oberseite mit einer dünnen Metallfolie (5) aus gut wärmeleitendem Material verschlossen. Unter der Wirkung des Kühlwasserdrucks auf der einen und des Unterdrucks in der Vakuumglocke (0) auf der anderen Seite schmiegt sich die Folie (5) eng an die Unterseite des Targets (6) an. Um zu verhindern, daß bei einer totalen Zerstäubung des Targets (6) die dünne Folie (5) beschädigt wird, ist ein Überwachungssystem vorgesehen. Dies besteht aus einem System von Nuten (7,8) in Target (6) und Kathode (1), die über eine Meßleitung (9) mit Drossel (11) und angeschlossenem Vakuummeßgerät (10) an Hochvakuum (12) angeschlossen sind.</p>
申请公布号 EP0334347(A1) 申请公布日期 1989.09.27
申请号 EP19890105217 申请日期 1989.03.23
申请人 ELAN ELEKTRONISCHE ANLAGEN GMBH 发明人 RUTT-HUBNER, WINFRIED PETER,
分类号 C23C14/34;C23C14/35;H01J37/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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