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发明名称 METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
摘要
申请公布号 JPH01238019(A) 申请公布日期 1989.09.22
申请号 JP19880063323 申请日期 1988.03.18
申请人 HITACHI LTD;HITACHI SERVICE ENG CO LTD 发明人 FUKUDA TAKUYA;OGAMI MICHIO;MONMA NAOHIRO;SONOBE TADASHI;SUZUKI KAZUO
分类号 H01L21/302;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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