| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING DEVICE AND PROCESSING SYSTEM THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH01238020(A) |
申请公布日期 |
1989.09.22 |
| 申请号 |
JP19880063324 |
申请日期 |
1988.03.18 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI SERVICE ENG CO LTD |
发明人 |
SUZUKI KAZUO;SONOBE TADASHI;OGAMI MICHIO;FUKUDA TAKUYA |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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