| 发明名称 |
HEAT-TREATMENT METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH01236616(A) |
申请公布日期 |
1989.09.21 |
| 申请号 |
JP19880058382 |
申请日期 |
1988.03.14 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
TAKAOKA MATSUO;HIDESHIMA OSAMU |
| 分类号 |
H01L21/22;F27B5/18;F27D19/00;G05D23/00;G05D23/19;H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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