发明名称 |
Device for ellipsometric analysis, method for the ellipsometric analysis of a sample, and use in the measurement of thickness variation of thin layers. |
摘要 |
<p>Appareil d'analyse d'échantillons (E) par ellipsométrie, et procédé d'analyse. Le faisceau lumineux (F) passe par un polariseur (4), une lame biréfringente (5) tournante (ω) et un analyseur (6). La mesure utilise les harmoniques deux et quatre de la vitesse de rotation de la lame (5). Application en particulier à la croissance et la gravure des couches minces.</p> |
申请公布号 |
EP0332508(A1) |
申请公布日期 |
1989.09.13 |
申请号 |
EP19890400582 |
申请日期 |
1989.03.02 |
申请人 |
VAREILLE, AIME;VUILLOD, YVES;THEVENOT, LOUIS |
发明人 |
VAREILLE, AIME |
分类号 |
G01B11/06;G01N21/21 |
主分类号 |
G01B11/06 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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