| 摘要 |
<P>Dispositif de répartition des faisceaux lasers utilisés dans un processus de séparation isotopique.</P><P>Les faisceaux lasers S1, ..., Sn, nentier au moins égal à 2 utilisés dans le processus sont divisés au moyen de miroirs partiellement réfléchissants 20, 21, 25, 26 et superposés par des miroirs dichroques 22a, 22b, 32a, 42a, 42b, 52a appropriés.</P><P>Les faisceaux superposés sont envoyés sur plusieurs passages dans une enceinte 10 de réaction. Lorsque l'un des faisceaux a sa fluence qui égale la fluence à saturation, une nouvelle partie de ce faisceau est superposée aux faisceaux grâce à un miroir dichroque adapté. Les interférences entre cette nouvelle partie et le faisceau résiduel ayant traversé l'enceinte 10 sont évitées.</P><P>Application à la séparation isotopique de vapeur d'uranium par faisceaux lasers.</P>
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