METHOD AND EQUIPMENT FOR PLASMA ETCHING,申请号JP19880051482-传众专利搜索

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发明名称	METHOD AND EQUIPMENT FOR PLASMA ETCHING
摘要
申请公布号	JPH01226151(A)	申请公布日期	1989.09.08
申请号	JP19880051482	申请日期	1988.03.07
申请人	HITACHI LTD	发明人	KAWAHARA HIRONORI;KAWASAKI YOSHINAO;KUDO KATSUYOSHI
分类号	H01L21/302;H01L21/3065	主分类号	H01L21/302
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