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发明名称 SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR RECRYSTALLIZATION TREATMENT AND MANUFACTURE THEREOF
摘要
申请公布号 JPH01215011(A) 申请公布日期 1989.08.29
申请号 JP19880039484 申请日期 1988.02.24
申请人 AGENCY OF IND SCIENCE & TECHNOL 发明人 KIMURA TAMOTSU;YAMAGISHI NAGAYASU
分类号 H01L21/20;H01L21/263 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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