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Die Erfindung betrifft lichtempfindliche, negativ arbeitende, zur Herstellung von Resistmustern geeignete, wäßrig-alkalisch entwickelbare Aufzeichnungsschichten. Diese bestehen im wesentlichen aus einem Gemisch aus a) einem oder mehreren in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen jedoch löslichen oder zumindest dispergierbaren filmbildenden polymeren Bindemitteln, b) einer oder mehreren photopolymerisierbaren organischen monomeren Verbindungen mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung oder deren Gemisch mit ethylenisch ungesättigten oligomeren Verbindungen, c) einem Photoinitiator oder Photoinitiatorsystem und d) üblichen Zusatz- und Hilfsstoffen, wobei das Gemisch zusätzlich ein Silan oder das bei der Hydrolyse des Silans entstehende Produkt oder Produktgemisch enthält.
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