MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号JP19880027221-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	JPH01202812(A)	申请公布日期	1989.08.15
申请号	JP19880027221	申请日期	1988.02.08
申请人	FUJITSU LTD	发明人	GOTO HIROSHI
分类号	H01L21/02;H01L21/31;H01L27/12	主分类号	H01L21/02
代理机构		代理人
主权项
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