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发明名称 Inlet manifold and methods for increasing gas dissociation and for PECVD of dielectric films
摘要
申请公布号 US4854263(A) 申请公布日期 1989.08.08
申请号 US19870085424 申请日期 1987.08.14
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 CHANG, MEI;WANG, DAVID N. K.;WHITE, JOHN M.;MAYDAN, DAN
分类号 C23C16/50;C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/509 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
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