| 摘要 |
<p>Bei einer Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien mit wenigstens einer Lampe (1) mit nachgeordneter Projektionseinrichtung (2, 4, 7, 9) zur flächigen Belichtung des auf einem Substratträger (13) abstützbaren Substrates durch eine ein Belichtungsmuster bestimmende Projektionsmaske erzeugt die Projektionseinrichtung (2, 4, 7, 9) einen nur über einen Bruchteil der zu belichtenden Fläche reichenden Lichtstreifen (10). Der Substratträger (13) mit dem Substrat (12) ist über Stelleinrichtungen in eine Sollage gegenüber der Projektionsmaske ausrichtbar und gemeinsam mit diesen Teilen quer zum erzeugten Lichtstreifen (10) verschiebbar angebracht, so daß der Lichtstreifen den gesamten zu belichtenden Bereich des Substrates (12) bestreicht. Im Projektionsweg (3, 5, 10) sind Stellglieder (18, 19) zur teilweisen Abschattung von Randbereichen des Lichtstreifens und damit der für die Belichtung wirksamen Breite des Lichtstreifens in dessen verschiedenen Längsbereichen vorgesehen.</p> |
