| 发明名称 |
PHOTOCHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH01189916(A) |
申请公布日期 |
1989.07.31 |
| 申请号 |
JP19880015641 |
申请日期 |
1988.01.26 |
| 申请人 |
BABCOCK HITACHI KK |
发明人 |
SHICHIDA HIROYUKI;SAKODA KOTARO;YAMAGUCHI RYOSUKE |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/263;H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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