| 主权项 |
1.一种改良雷射器电源,其中包括有可变的阻抗匹配设置为使一个雷射器腔室的阻抗与一个射频能源的源头匹配;有一种设置为察觉在该雷射器腔室内阻抗的变动;有一种设置为随着在该雷射器腔室内察觉的变动而改变上述可变阻抗匹配设置的阻抗;因而该射频电源能够以最适宜的方式耦合于上述雷射器腔室而使其能够起动,并且有助于一种最佳状态的能量传输。2.如专利请求「项的雷射器电源,其中上述可变阻抗匹配设置包括一个可变电容器。3.如专利请求2.项的雷射器电源,其中上述为察觉上述雷射器腔室内之阻抗变动的设置包括一个定向耦合器。4.如专利请求3.项的雷射器,其中上述为改变上述可变阻抗匹配设置之阻抗的设置包括一种设置为对应于所察觉的上述雷射腔室内阻抗之变动而将一种被放大的射频隔离DC信号供给上述可变电容器。5.一种改良的射频雷射器泵送系统,为以稳靠的方式使一个气体雷射器起动并且有效地驱动,让系统包括:有可变阻抗匹配设置为使一个雷射器控室的阻抗与一个射频能源的源头相匹配,该匹配设置包含一个可变电容器;有一种设置为察觉在该雷射器腔室内阻抗的变动,该设置包含一个定向耦合器;有一种设置为藉着改变上述可变电容器之电容而变动上述匹配设置的阻抗,其中包括一种设置为对应于被察觉的上述雷射器腔室阻抗内的变动而将一种可以放大的射频隔离DC信号供给上述可变电容器。6.如专利请求5.项的系统,其中上述为使雷射器腔室阻抗能够匹配的设置是一个调谐电路,其中又包含一个感应器及一个电容器。7.如专利请求6.项的系统,其中上述为察觉在雷射器控室内阻抗之变动的设置又包含一个通低频滤波器。8.如专利请求7.项的系统,其中上述定向耦合器包含一个一转的感应器。9.如专利请求7.项的系统,其中为改变上述阻抗匹配设置之阻抗的设置包含一个放大器,一个射频抗流圈,以及一个经过电容器。10.如专利请求9.项的系统,其中上述为察觉在雷射器控室内阻抗之变动的设置又包含一种设置为控制上述通低频滤波器的敏感性以及阻抗。 |
