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经营范围
发明名称
FORMING METHOD FOR SILICON OXYNITRIDE FILM
摘要
申请公布号
JPH01187828(A)
申请公布日期
1989.07.27
申请号
JP19880010639
申请日期
1988.01.22
申请人
HITACHI LTD
发明人
IIJIMA SHINPEI
分类号
H01L21/318
主分类号
H01L21/318
代理机构
代理人
主权项
地址
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