| 主权项 |
1﹒如下式之羟烷基─氮杂茂环基衍生物其中 R表示氢,R^1表示氟,氯,溴,视需 要被卤素取代之苯基,或─Z─R^3之 基团,其中Z表示氧或硫,且R^3表示 含1至6个碳原子之烷基,适当地被卤素 取代之苯基,适当地在苯基部份被卤素取 代之基,R^2表示具有1至6个碳原 子之烷基,其可适当地被具有1至4个碳 原子之烷氧基所取代,具有3至8个碳原 子之环烷基,其可适当地被具有1至4个 碳原子之烷基及/或卤素所取代,基, 其可适当地被具有1至4碳原子之烷基及 /或卤素取代,或下式之基其中R^4表 示氟,氯,溴,甲基,乙基,异丙基,特 丁基,甲氧基,甲硫基,三氟甲基,三氟 甲氧基,三氟甲硫基,视需要被氟,氯及 /或甲基取代之苯基,可适当地被氟,氯 及/或甲基取代之苯氧基,或硝基,且m 表示数目0,1,2或3,R^2表示化 学式如下之自由基 X表示氯或一种CH 基且Y表示基团─CH─CH─,─CH =CH─或─C=C─,其中R^5及R ^6分别表示氢,甲基或乙基。 2﹒如下式羟烷基一氮杂茂环基衍生物之制法 ;其中R表示氢,R^1表示氟,氯,溴 ,视需要被卤素取代之苯基,或─Z─R ^3之基团,其中Z表示氧或硫;且R^3 表示含1至6个碳原子之烷基,适当地被 卤素取代之苯基,适当地在苯基部份被卤 素取代之基,R^2表示具有1至6个 碳原子之烷基,其可适当地被具有1至4 个碳原子之烷氧基所取代,具有3至8个 碳原子之环烷基,其可适当地被具有1至 4个碳原子之烷基及/或卤素所取代, 基,其可适当地被具有1至4碳原子之烷 基及/或卤素取代,或下式之基其中R^ 4表示氢,氯,溴,甲基,乙基,异丙基 ,特丁基,甲氧基,甲硫基,三氟甲基, 三氟甲氧基,三氟甲硫基,视需要被氟, 氯及/或甲基取代之苯基,可适当地被氟 ,氯及/或甲基取代之苯氧基,或硝基, 且m表示数目0,1,2或3,或R^2 表示化学式如下之自由基X表示氯或一种 CH基且Y表示基团─CH─CH─,─ CH=CH─或─C=C─,其中R^5 及R^6分别表示氢,甲基或乙基,其特 征为:(a)将下式之环氧乙烷其中R^ 1,R^2及Y前述的意义,与下式之氮 杂茂环其中X有上述的意义,在一选自硷 金属碳酸盐及碳酸氢盐,硷金属氢氧化物 及乙醇化物,第三脂肪族或芳香族胺及环 胺之酸缚剂存在之下,且于一选自包含 类,芳香族烃类,甲醯胺及六次甲基磷酸 三醯胺之惰性有机溶剂存在之下,于0℃ 反200℃温度向进行反应。 3﹒杀菌剂或植物生长调节剂,特征为其至少 含有一种根据申请专利范围第1项之化学 式(I)之羟烷基─氮杂茂环基衍生物之 酸加成盐或金属盐错合物。 4﹒根据申请专利范围第1项化学式(I)之 羟烷基─氮杂茂环基衍生物或其酸加成盐 类及金属盐错合物之使用于对抗真菌及调 节植物的生长。 5﹒化学式如下之环丙基酮 其中R^1表示氟 ,氯,溴,视需要被卤素取代之苯基,或 ─Z─R^3之基团,其中Z表示氧或硫 ,且R^3表示含1至6个碳原子之烷基 ,适当地被卤素取代之苯基,适当地在苯 基部份被卤素取代之基,R^2表示具 有1至6个碳原子之烷基,其可适当地被 具有1至4个碳原子之烷氧基所取代,具 有3至8个碳原子之环烷基,其可适当地 被具有1至4个碳原子之烷基及/或卤素 所取代,基,其可适当地被具有1至4 碳原子之烷基及/或卤素取代,或下式之 基其中R^4表示氟,氯,溴,甲基,乙 基异丙基,特丁基,甲氧基,甲硫基,三 氟甲基,三氟甲氧基,三氟甲硫基,视需 要被氟,氯及/或甲基取代之苯基,可适 当地被氟;氯及/或甲基取代之苯氧基, 或硝基,且m表示数目0,1,2或3, 或R^2表示化学式如下之自由基其中R ^5及R^6分别表示氢,甲基或乙基。 6﹒化学式如下之环丙基酮之制法其中R^1 表示氟,氯,溴,视需要被卤素取代之苯 基,或─Z─R^3之基团,其中Z表示 氧或硫,且R^3表示含1至6个碳原子 之烷基,适当地被卤素取代之苯基,适当 地在苯基部份被卤素取代之基,R^2 表示具有1至6个碳原子之烷基,其可适 当地被具有1至4个碳原子之烷氧基所取 代,具有3至8个碳原子之环烷基,其可 适当地被具有1至4个碳原子之烷基及/ 或卤素所取代,基,其可适当地被具有 1至4碳原子之烷基及/或卤素取代,或 下式之基其中R^4表示氟,氯,溴,甲 基,乙基异丙基,特丁基,甲氧基,甲硫 基,三氟甲基,三氟甲氧基,三氟甲硫基 ,视需要被氟,氯及/或甲基取代之苯基 ,可适当地被氟,氯及/或甲基取代之苯 氧基,或硝基,且m表示数目0,1,2 或3,R2表示化学式如下之自由基乙基 ,X表示氯或一种CH基且Y表示基团─ CH─CH─,─CH=CH─或─C三 C─,其中R5及R6分别表示氢,甲基 或乙基,其特点在于(e)将下式之醛类 其中R2,R5及R6有前述意义,与 化学式如下之甲基环丙基酮其中R1有前 述意义在一选自硷金属碳酸盐及碳酸氢盐 ,硷金属氢氧化物及乙醇化物,第三脂肪 族或芳香族胺及环胺之酸缚剂存在之下, 且于一选自包含类,芳香族烃类,甲醯 胺及六次甲基磷酸三醯胺之惰性有机溶剂 存在之下,于0℃及200℃温度间进行 反应,且若适宜将下式之环丙酮其中R1 ,R2,R5及R6有前述的意义,在一 选自硷金属碳酸盐及碳酸氢盐,硷金属氢 氧化物及乙醇化物,第三脂肪族或芳香族 胺及环胺之酸缚剂存在之下,且于一选自 包含类,芳香族烃类,甲醯胺及六次甲 基磷酸三醯胺之惰性有机溶剂存在之下, 于0℃℃及200℃温度间进行反应,以 于此反应中氢化,或(f)将下式之乙炔 R2─C三CH(X'I)其中R2有前 述意义,与化学式如下之卤化醯其中R1 有前述意义,且Hal"表示氯或溴,在 一选自硷金属碳酸盐及碳酸氢盐,硷金属 氢氧化物及乙醇化物,第三脂肪族或芳香 族胺及环胺之酸缚剂存在之下,且于一选 自包含类,芳香族烃类,甲醯胺及六次 甲基磷离三醯胺之惰性有机溶剂存在之下 ,于0℃及200℃温度间进行反应 |
