发明名称 含有高锰酸根辅离子之高锰酸钠蚀刻浴
摘要
申请公布号 TW115296 申请公布日期 1989.06.21
申请号 TW075101250 申请日期 1986.03.21
申请人 莫顿狄柯尔公司 发明人 吉拉德.克鲁利克
分类号 H05K3/06 主分类号 H05K3/06
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 l.一水合,硷性液体Kmno 溶液,包括水, 金属氢氧化物,NaMnO 和每莫耳MnO 中含约0.1-3.0莫耳之选自K+,Cs ,Rb 和其混合之Mn0 之一辅离子。z﹒依申请专利范围第I项之一溶液,其中辅离子之存在量每莫耳MnO 4中由约0.l -1.5莫耳。3﹒依申请专利范围第I项之一溶液,其中辅离子是K 。4.依申请专利范围第I项之一溶液,其中金属氢氧化物是NaOH。5﹒依申请专利范围第1项之一溶液,其中金属氢氧化物之存在量,每公升溶液中至少提供约l莫耳OH 。6﹒依申请专利范围第5项之一溶液,其中金属氢氧化物之存在量,每公升溶液中提供约1一4莫耳OH 。7﹒依申请专利范围第1项之一溶液,含至少约70克/升NaMnO 。8.依申请专利范围第7项之一溶液含约70克/升-400克NaMnO 。9.依申请专利范围第l项之一溶腋含至少约140克/升NaMnO ,约4莫耳/升的OH和每莫耳MnO 中约0.1-1.5莫耳的K 。
地址 美国