Process for obtaining aligned patterns on opposite sides of an opaque support.

摘要

L'invention concerne un procédé d'obtention de motifs alignés entre eux sur deux faces opposées d'une plaque opaque 2. Pour ce faire, la plaque opaque (2) qui porte un motif de repérage (3) est collée sur une lame transparente (1) du côté dudit motif (3) et on reporte par photolithographie sur la lame (1) un motif d'alignement (8) aligné par rapport au motif de repérage (3). Ce motif d'alignement (8) est utilisé pour réaliser sur l'autre face de la plaque opaque (2) les motifs désirés (9) alignés par rapport au motif d'alignement (8).