MASK FOR OBTAINING TEXTURED PATTERNS IN RESIST LAYERS USING X-RAY LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME,申请号DE19833379805-传众专利搜索

发明名称	MASK FOR OBTAINING TEXTURED PATTERNS IN RESIST LAYERS USING X-RAY LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
摘要
申请公布号	DE3379805(D1)	申请公布日期	1989.06.08
申请号	DE19833379805	申请日期	1983.08.31
申请人	PHILIPS PATENTVERWALTUNG GMBH;N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN	发明人	HARMS, MARGRET;LUTHJE, HOLGER;MATTHIESSEN, BERND;BRUNS, ANGELIKA
分类号	G03F1/00;(IPC1-7):G03F1/00	主分类号	G03F1/00
代理机构		代理人
主权项
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