发明名称 Device for analysing traces of gas.
摘要 <p>Es werden ein Verfahren und ein System zur (Spuren-) Gasanalyse, insbesondere zur NH2-Analyse in Rauchgasen von Kraftwerken oder Industrieabgasen gezeigt. Hierbei wird ein Laser zwischen zwei seiner ihm eigenen Resonanzlinien hin- und hergeschaltet, wobei eine der Wellenlängen einem Absorptionsmaximun, die andere Wellenlänge einem Absorptionsminimum des zu detektierenden Gases entspricht. Aus dem Verhältnis der Intensitätsabschwächung bei den beiden Wellenlängen wird die Extinktion E und damit die Konzentration des zu untersuchenden Gases hergeleitet.</p>
申请公布号 EP0318752(A2) 申请公布日期 1989.06.07
申请号 EP19880118969 申请日期 1988.11.14
申请人 MUTEK-LASER UND OPTO-ELEKTRONISCHE GERATE GMBH 发明人 WOLFRUM, JURGEN, PROF. DR.;NECKEL, HARTMUT, DIPL.-PHYS.
分类号 G01N21/31;G01N21/39;G01N21/53 主分类号 G01N21/31
代理机构 代理人
主权项
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