发明名称 |
Device for analysing traces of gas. |
摘要 |
<p>Es werden ein Verfahren und ein System zur (Spuren-) Gasanalyse, insbesondere zur NH2-Analyse in Rauchgasen von Kraftwerken oder Industrieabgasen gezeigt. Hierbei wird ein Laser zwischen zwei seiner ihm eigenen Resonanzlinien hin- und hergeschaltet, wobei eine der Wellenlängen einem Absorptionsmaximun, die andere Wellenlänge einem Absorptionsminimum des zu detektierenden Gases entspricht. Aus dem Verhältnis der Intensitätsabschwächung bei den beiden Wellenlängen wird die Extinktion E und damit die Konzentration des zu untersuchenden Gases hergeleitet.</p> |
申请公布号 |
EP0318752(A2) |
申请公布日期 |
1989.06.07 |
申请号 |
EP19880118969 |
申请日期 |
1988.11.14 |
申请人 |
MUTEK-LASER UND OPTO-ELEKTRONISCHE GERATE GMBH |
发明人 |
WOLFRUM, JURGEN, PROF. DR.;NECKEL, HARTMUT, DIPL.-PHYS. |
分类号 |
G01N21/31;G01N21/39;G01N21/53 |
主分类号 |
G01N21/31 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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