| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT APPARATUS AND ITS CLEANING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08107073(A) |
申请公布日期 |
1996.04.23 |
| 申请号 |
JP19940241001 |
申请日期 |
1994.10.05 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SONOBE TADASHI;OTSUKA MICHIO;CHIBA ATSUSHI;YOSHIOKA TAKESHI;TETSUKA TSUTOMU |
| 分类号 |
C23F1/08;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/205;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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