Gas mixture and method for anisotropic selective etch of nitride,申请号US19880157762-传众专利搜索

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发明名称	Gas mixture and method for anisotropic selective etch of nitride
摘要
申请公布号	US4832787(A)	申请公布日期	1989.05.23
申请号	US19880157762	申请日期	1988.02.19
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION	发明人	BONDUR, JAMES A.;MARTINET, FRANCOIS D.
分类号	H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311	主分类号	H01L21/302
代理机构		代理人
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