PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN

摘要

Matériau formant avec précision un motif négatif désiré sur un substrat et procédé permettant de former le motif désiré sur un substrat en utilisant ce matériau. Ce dernier contient en tant que composant principal un polyorganosiloxane qui est constitué d'unités de siloxane représentées par SiO4/2 et d'au moins une unité d'organosiloxane, contient au moins un groupe sensible au rayonnement à haute énergie par molécule, présente une température de ramollissement supérieure à la temperature ordinaire et est soluble dans un solvant.