发明名称 METHOD FOR THE ELECTRONIC CALIBRATION OF AN EXPOSURE METER IN AN OPTICAL SYSTEM
摘要 Die Erfindung betrifft ein Kalibrierungsverfahren für eine Belichtungsmesseinrichtung eines Mikroskops (1), dessen aus dem Mikroskopobjektiv (22) austretendes Strahlenbündel (4; 7) in ein zu einem Okular (8) führendes erstes Teilstrahlenbündel (7), in dem eine Strichplatte (24) mit einer Einstellmarke angeordnet ist, und in ein zweites Teilstrahlenbündel (4) aufgeteilt wird, das zu einem Sensor (10) führt, der aus elektrooptischen Pixelelementen (12) gebildet ist, denen eine elektronische Verarbeitungseinrichtung nachgeschaltet ist. Das Verfahren beinhaltet, dass auf dem Mikroskoptisch (3) eine einen Kalibrierungs-Bezugspunkt aufweisende Kalibrierungsprobe (15) angeordnet wird, durch Verschieben des Mikroskoptisches (2) der Kalibrierungs-Bezugspunkt der Kalibrierungsprobe (15) mit der Einstellmarke der Strichplatte (24) in eine vorbestimmte Lagebeziehung gebracht wird, in dieser Lagebeziehung die Kalibrierungsprobe (15) mit dem Kalibrierungs-Bezugspunkt auf die Pixelelemente (12) des Sensors (10) abgebildet wird und unter den Pixelelementen (12) des Sensors (10) das Pixelelement als Bezugs-Pixelelement für nachfolgende Belichtungsmessungen bestimmt wird, auf das das Bild des Kalibrierungs-Bezugspunkts fällt.
申请公布号 WO0037987(A2) 申请公布日期 2000.06.29
申请号 WO1999DE04005 申请日期 1999.12.17
申请人 LEICA MICROSYSTEMS WETZLAR GMBH;CARL ZEISS JENA GMBH;STENZEL, RUEDIGER;RUEHL, HELMUT;KNOBLICH, JOHANNES;KOHLE, DIRK 发明人 STENZEL, RUEDIGER;RUEHL, HELMUT;KNOBLICH, JOHANNES;KOHLE, DIRK
分类号 G02B21/36;(IPC1-7):G02B21/36 主分类号 G02B21/36
代理机构 代理人
主权项
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