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经营范围
发明名称
ETCHING GAS FOR SILICON
摘要
申请公布号
JPH01117035(A)
申请公布日期
1989.05.09
申请号
JP19870274027
申请日期
1987.10.29
申请人
SONY CORP
发明人
KADOMURA SHINGO
分类号
H01L21/302;H01L21/3065
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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