发明名称 |
HIGH ENERGY ION IMPLANTER HAVING MONITORING FUNCTION ABOUT CHARGE EXCHANGING GAS |
摘要 |
|
申请公布号 |
KR100533568(B1) |
申请公布日期 |
2005.11.29 |
申请号 |
KR20040055109 |
申请日期 |
2004.07.15 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
CHO, YEON HA |
分类号 |
H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/265 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|