摘要 |
<P>L'invention concerne une silice utilisable notamment dans les compositions dentifrices.</P><P>La silice de l'invention est caractérisée en ce qu'elle présente une chimie de surface telle que le nombre de OH exprimé en OH/nm**2 soit d'au plus 15 et que son point de charge nulle PZC soit compris entre 3 et 6,5 et une compatibilité avec le zinc d'au moins 50 %.</P>
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