| 主权项 |
1.一种抗氧化、热或光-导致降解有害影响的稳定化聚合物组成物,该组成物包括(a)一聚合物基质,(b)至少一奈米级填充剂,其中该奈米填充剂的平均直径介于20和30,000 nm之间,和一长宽比介于30,000:1和20:1之间,及(c)至少一选自位阻胺光稳定剂的添加剂。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该填充剂是一有机亲水性叶矽酸盐(organophilic phyllosilicates),天然产生的叶矽酸盐,合成叶矽酸盐或这些叶矽酸盐的混合物。3.如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(b)的含量是从0.5至10%重量百分比(依据成份(a)的重量计算)。4.如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(c)的位阻胺光稳定剂是选自在N-原子是由一烷氧基或环烷氧基取代之位阻胺光稳定剂,在N-原子上是由一经一羟基进一步取代之烷氧基取代的位阻胺,和传统位阻胺,其中N-原子是经氢,烷基或醯基取代的。5.如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(c)是-双(2,2,6,6-四-甲基啶-4-基)癸二酸酯和2,4-二氯化-6-叔-辛基胺基-s-三及4,4'-六甲撑双(胺基-2,2,6,6-四-甲基啶)之聚凝缩产物的1:1混合物。6.如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(c)的存在量是从0.01至10%重量百分比(依据成份(a)的重量计算)。7.如申请专利范围第1项之组成物,进一步包括(d)至少一选自下列物质的添加剂:其它位阻胺光稳定剂,紫外线吸收剂,酚抗氧化剂,有机磷稳定剂,胺抗氧化剂,羟基胺稳定剂,硝酮稳定剂,苯并喃酮稳定剂和胺氧化物稳定剂。8.一种有效稳定聚合物基质的方法,此基质对氧化、热或光-导致的降解有害影响是敏感的,此方法包括在其中加入一有效稳定量的(b)至少一奈米级填充剂,其中该奈米填充剂的平均直径介于20和30,000 nm之间,和一长宽比介于30,000:1和20:1之间,及(c)至少一选自位阻胺光稳定剂的添加剂。9.一种组成物,包括(a)至少一含乙烯键未饱和之可聚合化合物,或阳离子性可聚合化合物,(b)至少一奈米级填充剂,其中该奈米填充剂的平均直径介于20和30,000 nm之间,和一长宽比介于30,000:1和20:1之间,及(c)至少一适合硬化含乙烯键未饱和之可聚合化合物,或阳离子性可聚合化合物的光起始剂。10.一种硬化含乙烯键未饱和之可聚合化合物或阳离子性可聚合化合物的方法,此方法包括在该化合物中加入:(b)至少一奈米级填充剂,其中该奈米填充剂的平均直径介于20和30,000 nm之间,和一长宽比介于30,000:1和20:1之间,及(c)至少一适于硬化含乙烯键未饱和之可聚合化合物或阳离子性可聚合化合物的光起始剂,及以紫外线或阳光或等于阳光的光源照射所得混合物。 |
