| 摘要 |
Une composition d'un masque temporaire comprend: 1) un monomère polymérisable par rayonnement comprenant une quantité prédominante d'un prépolymère acrylique et coiffé, (ACRYL)m-X, 2) un photo-initiateur radical, 3) un composant de réduction d'adhésion sélectionné dans le groupe constitué de: (i) des esters acryliques d'alcools gras de formule (I), (ii) des esters de vinyl d'acides gras de formule (II) et (iii) des esters monoacryliques d'oxydes de polyalkylène de formule (III) où ACRYL est représenté par la formule (IV), x est un résidu ou structure polymère, m > 2, n > 9, o > 8, p > 3, R = H ou alkyle. Un procédé de formation d'un masque temporaire pour des composants électroniques, compatible avec une production à vitesse élevée est également décrit. Avantageusement, l'adhésion de la composition polymérisée (22) sur le substrat (16), mesurée dans le mode de cisaillement par traction, est comprise entre 5 et 55 psi. Ce niveau d'adhésion est suffisant pour empêcher l'entrée de soudure par solvant, de matériaux de placage ou de revêtement mais il est suffisamment faible pour permettre un dépouillage à sec aisé, soit mécaniquement soit à la main. |
