| 发明名称 |
A PROCESS FOR PRODUCING A HIGH PURITY OXIDE LAYER ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0218177(A3) |
申请公布日期 |
1989.04.26 |
| 申请号 |
EP19860113443 |
申请日期 |
1986.09.30 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
BLUM, SAMUEL EMIL |
| 分类号 |
H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/383;C30B31/10 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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