| 摘要 |
<P>L'invention concerne la production par plasma de couches minces à usage électronique et/ou optoélectronique.</P><P>Selon l'invention, on place l'enceinte 3 dans laquelle est produit le processus dans une chambre 2 dans laquelle on crée un vide plus poussé que dans l'enceinte, on chauffe les parois de l'enceinte 3 et on maintient froides celles de la chambre.</P><P>L'invention s'applique à la production économique de telles couches minces à usage électronique et/ou optoélectronique.</P>
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