| 主权项 |
1.一种如下列式(Ⅰ)所示之化合物: 式中R1和R2各自独立为氢,或未被取 代或被取代之烷基;R3为氢或烷基;R 4为烷基或羧基;A为下列式(Ⅱ)或(Ⅲ) 以游离酸型所示之二价基团: 式中R5为氢,甲基,甲氧基,乙氧基, 磺酸基,或羧基;X为氢或磺酸基;n为 0或1;星号键系连接至偶氮基;B1和 B2各自独立为未被取代或被一个或两个 甲基,甲氧基,乙基,乙氧基,氯,溴, 磺酸基,或羧基所取代之亚苯基,或未被 取代或被磺酸基取代之亚 基;W为氢, 胺甲醯基,磺酸基烷基,氰基,磺酸基, 氯或溴;Y1和Y2各自独立为-CH= CH2或-CH2CH2Z,其中Z为可 被硷作用而裂解之基。2.如申请专利范围第1项所 述之化合物,其 中B1和B2各自独立为未被取代或被甲 基或甲氧基所取代之亚苯基。3.如申请专利范围 第1项所述之化合物,其 中R1和R2之任一者为氢,且另一为氢 ,甲基,或乙基。4.如申请专利范围第1项所述之化 合物,其 中W为氢。5.如申请专利范围第1项所述之化合物, 其 中A为如申请专利范围第1项中所定义之 分子式(Ⅱ)或下列式之二价基团: 式中星号键如同申请专利范围第1项所定 义者,且R'5为氢,甲基,甲氧基,磺 酸基,或羧基。6.如申请专利范围第1项所述之化合 物, 中Y1和Y2均为-硫酸根络乙基 。7.一种下列式以 游离酸型所示之化合物: 式中R6为氢,甲基,或乙基,且R7为 甲基或乙基。8.一种下列式以游离酸型所示之化 合物: 式中R8为氢,甲基,或乙基,R9为甲 基或乙基,且m为0或1。9.一种如下列式(Ⅰ)所示化 合物之制法: 式中R1和R2各自独立为氢,或未被取 代或被取代之烷基;R3为氢或烷基;R4 为烷基或羧基;A为下列式(Ⅱ)或(Ⅲ) 以游离酸型所示之二价基团: 式中R5为氢,甲基,甲氧基,乙氧基, 磺酸基,或羧基;X为氢或磺酸基;n为 0或1;星号键系连接至偶氮基;B1和 B2各自独立为未被取代或被一个或两个 甲基,甲氧基,乙基,乙氧基,氯,溴, 磺酸基,或羧基所取代之苯基,或未被取 代或被磺酸基所取代之亚 基;W为氢, 胺甲醯基,磺酸基烷基,氰基,磺酸基, 氯,或溴:Y1和Y2各自独立为-CH -CH2或-CH2CH2Z其中Z为可 被硷作用而裂解之基团;该制法包括:将 三聚卤化氰;下列式(Ⅳ)之二胺化合物: NH2-A-NH2(Ⅳ) 式中A如同上;下列式(Ⅴ)之胺化合物, 式中R1,B1,及Y1如同上;下列式 (Ⅵ)之另一胺化合物 式中R2,B2,及Y2如同上:以及下 列式(Ⅶ)之 啶酮化合物, 式中R3,R4及W如同上;在水介质中 予以反应而制成。10.一种染色或印染含羟基或碳 醯胺材料之 方法,其包括使用如下式(Ⅰ)所示之化合 物: 式中R1和R2各自独立为氢,或未被取 代或被取代之烷基;R3为氢或烷基;R4 为烷基或羧基:A为下列式(Ⅱ)或(Ⅲ) 以游离酸型所示之二价基团: 式中R5为氢,甲基,甲氧基,乙氧基, 磺酸基,或羧基;X为氢或磺酸基;n为 0或1;星号键系连接至单偶氮基;B1 和B2各自独立为未被取代或被一个或两 个甲基,甲氧基,乙基,乙氧基,氯,溴 ,磺酸基,或羧基所取代之亚苯基,或未 被取代之亚苯基,或未被取代或被磺酸基 取代之亚 基;W为氢,胺甲醯基,磺酸 基烷基,氰基,磺酸基,氯,或溴:Y1 和Y2各自独立为-CH=CH2或-C H2CH2Z,其中Z为可被硷作用而裂 解之基团。11.如申请专利范围第10项所述方法予 以染 色或印染含有羟基或碳醯胺基之材料。 |
