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1.一种烯烃聚合反应及烯烃共聚合反应的触 媒系统,其包括: (a)描述于下式的一对掌且立体固定铪络合 物触媒 R"(C5 (R')4 )2HfQp 其中(C5(R')4)是一环戊二烯环基 环或经取代的环戊二烯基环,各个R'是 一氢或一具有从1至20个碳原子的烃基, R"是一有机基或无机基其在两个(C5( R')4 )环之间提供一结构桥而使得触 媒立体固定,Q是一具有l一20个碳原子 的烃基或是一卤素;和O≦p≦3;以及 (b)铝化合物。 2﹒如申请专利范围第1项的系统,其中(C5 (R')4 )是选自一 基和一经水合的 基。 3﹒如申请专利范围第1项的系统,其中R" 是选自一具有1一4个碳原子的烷撑,一 矽烃基,一铐烃基,一烷基膦基 ;硼,氮,硫,磷,铝和含有这些元素的 基团。 4﹒如申请专利范围第1项的系统,其中R" 包括一乙撑桥。 5﹒如申请专利范围第1项的系统,其中Q是 氯。 6﹒如申请专利图围第1项的系统,其中铝化 合物是铝恶烷或铝恶烷和二甲基铝的一混 合物。 7﹒如申请专利范围第1项的系统,其中系统 制造一具有Mw大于10,000的聚合物。 8﹒如申请专利范围第1项的系统进一步包括 (c)一溶剂。 9﹒如申请专利范围第1项的系统,其中该溶 剂是选自甲苯,二甲苯和二氯甲烷。 10﹒一种具有三或多个碳原子烯烃之聚合反 应或共聚合反应的触媒系统,该系统包括 : (a)描述于下式的一对掌且立体固定的铪络 合物触媒 R"(C5(R')4 )2HfQp 其中(C5(R')4 )是一环戊二烯基环 或经取代的环戊二烯基环,各个R'是一 氢或一具有从1至20个碳原子的烃基,R "是一有机基或无机基其在两个(C5( R')4 )环之间提供一结构环而使得该 触媒立体固定,Q是一具有l-20个碳原 子的烃基或是卤素;和O≦p≦;以及 (b)一铝化合物。 11﹒如申请专利范围第10项的系统,其中 (C5(R')4 )是选自一 ,基和一经水 合的 基。 12﹒如申请专利范围第10项的系统,其中R "是选自一具有1一4个碳原子的烷撑, 一矽烃基,一锗烃基,一烷基膦,一烷胺 基;硼,氮,硫,磷,铝和含有这些元素 的基团。 13﹒如申请专利范围第10项的系统,其中R "包括一乙撑。 14﹒如申请专利范围第10项的系统,其中Q 是氯。 15﹒如申请专利范围第10项的系统,其中铝 化合物是铝恶烷或铝恶烷和二甲基铝的一 混合物。 16﹒如申请专利范围第10项的系统,其中铝 化合物含有0一20莫耳%约二甲基铝和80 一100莫耳%的铝恶烷。 17﹒如申请专利范围第16项的系统,其中系 统展示一触媒的变换超过时间。 18﹒如申请专利范围第17项的系统,其中触 媒变换的特征是制造一较低分子量的聚合 物产物。 19﹒申请专利范围第10项的系统进一步包括 (c)一溶剂。 20﹒申请专利范围第10项的系统,其中溶剂 送自甲苯,二甲笨和二氯甲烷。 |
